半導體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，半導體工業(yè)對于純水的水質(zhì)要求是及其嚴格的，大部分的電子產(chǎn)品，如計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關(guān)聯(lián)， 因此無論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。
今天來簡單講解一下關(guān)于：半導體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程;
半導體工業(yè)純水設(shè)備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統(tǒng)：
電去離子也就是常說的EDI，EDI系統(tǒng)采用的是一種離子交換技術(shù)，子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。
最新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：
原水預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象。
傳統(tǒng)的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：
原水預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象。
采用EDI系統(tǒng)制取純水的優(yōu)勢有：
1、EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水;
2、設(shè)備在運行期間沒有加入化學藥劑，無需酸堿再生;
3、設(shè)備采用的是全自動的控制模式，因此可達到無人值守;
4、設(shè)備安裝方便：EDI系統(tǒng)采用積木式結(jié)構(gòu)，依據(jù)場地的高度和窨靈活地構(gòu)造;
以上是小編整理的關(guān)于半導體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解，如想了解關(guān)于半導體工業(yè)純水設(shè)備水質(zhì)為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質(zhì)工藝流程可到宏森環(huán)保進行詳細的資料查詢。
